차세대 디스플레이시장 선점 한국…'청색 양자점' 특허출원 1위

고효율 친환경 청색 양자점 분야 특허 출원 증가율 한국이 51.3%

세계 평균 27.8% 크게 앞질러, 삼성전자 1위·삼성디스플레이 4위

특허 출원건수 10위 명단에 4곳, 등록건수 명단엔 5곳 이름 올려

[대전=뉴시스] 고효율 친환경 청색 양자점 특허 출원 국제 동향.(사진=특허청 제공) *재판매 및 DB 금지

[대전=뉴시스] 김양수 기자 = 우리나라가 차세대 디스플레이 핵심소재로 부각된 고효율의 친환경 '청색 양자점' 기술에서 세계를 선도하고 있는 것으로 확인됐다.

3일 특허청은 최근 10년(2012년~2021년) 간 차세대 디스플레이 핵심소재로 분류되는 고효율 친환경 청색 양자점의 한국 특허출원이 연평균 51.3%씩 증가, 청색 양자점 기술개발을 이끌고 있는 것으로 나타났다고 밝혔다. 같은 기간 세계 특허출원은 연평균 27.8%가량 성장했다.

양자점(Quantum Dot)은 크기에 따라 색이 달라지는 지름 2~10㎚ 크기의 반도체 결정으로, 광안정성과 색순도가 높고 밝기와 소비전력이 우수해 디스플레이, 태양전지, 바이오 센서 등 다양한 분야에 활용가능하다.

지난 2006년 EU에서 유해물질을 포함하는 전자제품을 제한한 이후 관련 업계는 카드뮴을 포함하지 않는 친환경 양자점을 주요 개발방향으로 삼고 있다. 청색 양자점은 적색, 녹색 양자점에 비해 효율이나 수명이 떨어져 효율이 낮은 것으로 알려져 있어 '고효율 친환경 청색 양자점'이 차세대 디스플레이 분야서 화두가 되고 있다.

특허청에 따르면 주요 5대 특허청인 IP5(한·미·EU·중·일)에 출원된 전 세계 특허를 분석한 결과, 고효율 친환경 청색 양자점 출원량은 2012년 13건에서 최근 10년간 연평균 27.8% 성장해 2021년에는 118건이 나왔다.

특히 129건이 출원된 전기 5년(2012년~2016년) 대비 후기 5년(2017년~2021년)에 752건의 특허가 출원돼 최근 급증 추세다.

10년간의 출원인 국적별 분석에서 한국의 출원증가 속도는 연평균 51.3%로 세계에서 가장 빨랐으며 중국이 연평균 40.3% 성장세로 뒤를 이었다.

출원량에서도 한국이 47.6%(419건)로 가장 많았고 이어 중국 26.2%(231건), 미국 14.4%(127건), 일본 5.8%(51건), 유럽 5.2%(46건) 순으로 뒤따랐다. 등록특허 순위도 유사하게 집계됐다.

[대전=뉴시스] 고효율 친환경 청색 양자점 주요 다출원인(등록 기준). *재판매 및 DB 금지

특히 주요 출원인 분석에서 우리나라의 삼성전자가 32.7%(288건)로 최다 출원 세계 1위를 차지했고 TCL(중국) 14.8%(130건), 나노시스(미국) 10.7%(94건), 삼성디스플레이(한국) 4.1%(36건), 나노코 테크(영국) 4.0%(35건) 순으로 많이 출원했다.

또 홍익대학교(1.5%, 13건) 9위, 동우화인켐(1.2%, 11건) 10위로 집계돼 한국 출원인이 10위 명단에 4곳이 이름을 올려 최다 출원국으로 기록됐다.

등록특허를 기준으로 한 통계에서도 1위 삼성전자(29.7%, 123건), 홍익대학교(2.4%, 10건) 5위, 삼성디스플레이(2.2%, 9건)와 동우화인켐(2.2%, 9건)이 공동 6위, 울산과학기술원(1.7%, 7건)이 9위로 5개 기관이 10위권 내에 이름을 올렸다.

특허청이 분석대상 기간을 4구간으로 구분한 뒤 출원인수 및 출원건수를 축으로 변화를 분석해 특허기술 성장단계를 파악한 결과, 고효율 친환경 청색 양자점 기술은 2단계인 성장단계에 있음이 확인됐다.

특허기술 성장단계는 1단계(태동)-2단계(성장)-3단계(성숙)-4단계(쇠퇴)-5단계(회복)로 나뉜다.

특허청 허영한 반도체소재심사팀장은 "차세대 디스플레이 시장을 선점키 위해서는 고효율 친환경 청색 양자점에 대한 양질의 특허 획득이 무엇보다 중요하다"면서 "탄소중립, 환경 보호라는 시대 흐름에 맞춰 우리 기업이 고효율 친환경 디스플레이용 신소재를 개발, 시장을 선점해 나갈 수 있도록 고품질 심사뿐만 아니라 관련 특허정보를 지속 제공해 나갈 것"이라고 말했다.

☞공감언론 뉴시스 kys0505@newsis.com

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