“생산 효율 높여 경쟁력 확보”
앞서 SK하이닉스는 2004년 우시시와 현지 공장 설립을 위한 계약을 체결하고 2006년 생산라인을 완공해 D램를 생산해왔다. 하지만 공정 미세화로 공정수가 늘고 장비 대형화로 공간이 부족해지면서 2016년 생산라인을 확장하기로 결정했다.
이번에 준공한 C2F는 건축면적 5만8000m²의 단층 팹으로 기존 공장과 비슷한 규모다. 일부 ‘클린룸’ 공사를 완료하고 장비를 설치해 D램 생산을 이미 시작한 상태로, 향후 추가적인 클린룸 공사 및 장비 입고 시기는 탄력적으로 결정할 예정이다. SK하이닉스는 2017년 6월부터 올해 4월까지 총 9500억 원을 투입했다.
강영수 SK하이닉스 우시FAB담당 전무는 “C2F 준공으로 우시 팹의 중장기 경쟁력을 확보하게 됐다“며 “C2F는 기존 C2 공장과 하나의 팹으로 운영해 우시 팹의 생산·운영 효율을 극대화할 것”이라고 말했다.
‘새로운 도약, 새로운 미래’라는 주제로 열린 이날 준공식에는 리샤오민 우시시 서기, 궈위엔창 장쑤성 부성장, 최영삼 상하이 총영사, 이석희 SK하이닉스 대표이사, 고객 및 협력사 대표 등 약 500명이 참석했다.
허동준 기자 hungry@donga.com
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