삼성, 4나노 공정 2020년 개발…반도체 미세공정 로드맵 발표 연합뉴스 원문 김연숙 입력 2017.05.25 09:29 최종수정 2017.05.25 09:49 댓글 첫 댓글을 작성해보세요 글자 크기 변경 작게 기본 크게 가장 크게 출력하기 페이스북 공유 엑스 공유 카카오톡 공유 주소복사 주소복사가 완료되었습니다 기사로 돌아가기