국내 최초 국산화 성공하며 주목
삼성·SK하이닉스 등 협력사로
中·日·대만·유럽 기업에도 공급
올해도 실적 20% 이상 성장 자신
정수홍 에스앤에스텍 대표이사가 지난 달 25일 부산 기장군 현대차드림볼파크에서 열린 '2025 롯데자이언츠·파이낸셜뉴스배 명문고 야구열전'에서 시구자로 나선 뒤 기념촬영을 하고 있다. 사진=서동일 기자 |
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"블랭크마스크 양산 체제를 본격화 해 기술 국산화를 토대로 글로벌 반도체 시장에서 한국 입지를 강화할 것입니다."
정수홍 에스앤에스텍 대표이사는 23일 "반도체 산업 전반이 어렵다고 하지만 소재 부문은 성장세를 유지하고 있다"며 "올해도 실적이 20% 이상 개선될 것으로 보고 있다"고 자신감을 내비쳤다. 에스앤에스텍은 지난해 매출액 1760억1389만원, 영업이익 294억7869만원을 기록, 각각 전년 대비 17% 가량 증가했다.
정 대표가 지난 2001년 설립한 에스앤에스텍은 반도체와 디스플레이 제조 공정의 핵심 소재인 '블랭크마스크'를 제조·판매하는 기업이다. 블랭크마스크는 포토마스크의 원재료로, 고순도 쿼츠를 가공해 생산한다. 동그란 웨이퍼 위에 회로 패턴을 새기는 노광 공정에서 빛을 통과시키며 일종의 도화지 역할을 한다.
에스앤에스텍은 주요 반도체·디스플레이 제조사와 협력하며 기술 및 제품 공급을 확대하고 있다. 디스플레이용 블랭크마스크는 주로 LCD나 OLED 패널 제조 과정에서 사용되며, 비교적 넓은 면적에 정밀한 패턴을 구현하는 것이 핵심이다. 반도체용의 경우 메모리·시스템 반도체와 같은 고밀도, 초미세 회로 구현에 사용되며 미세화 공정의 난이도가 높다. 정 대표는 "삼성전자, SK하이닉스, LG디스플레이 등과 협력 중"이라며 "241건의 국내 특허를 출원, 104건을 등록했으며 지난 3년간 17건의 공동기술 개발실적을 달성했다"고 말했다.
올해는 극자외선(EUV) 블랭크마스크·펠리클로 주목받고 있다. EUV 공정은 기존의 심자외선(DUV) 공정보다 파장이 짧은 극자외선을 이용해 7나노 이하 초미세 반도체 회로를 제조하는 데 필수적이다. 현재 일본 기업 호야와 미쓰이화학이 시장을 각각 점유하고 있는 만큼 기술 의존도가 높은 분야다. 이에 소재 국산화를 통한 공급망 안정화 등을 위해 정부로부터 지난 5년 동안 R&D 자금을 지원 받는 등 EUV 제품 양산을 목표로 기술 고도화에 나섰다.
정 대표는 "EUV 블랭크마스크 기술은 높은 정밀도와 생산 난이도를 요구하는 분야로, 주요 고객사들과 최종 품질 조정 및 기술적 튜닝 작업을 마무리 중"이라며 "용인에 위치한 신공장의 생산 설비 구축을 올해 10월까지 마무리하고 내년 초부터 본격적인 양산 체제에 돌입할 것"이라고 설명했다.
정 대표는 EUV 기술이 본격적으로 상용화 될 경우 연매출 규모가 3000억원에서 최대 5000억원 이상까지 성장할 것으로 내다보고 있다. 그는 "필수 소재 기업으로서 기술 경쟁력을 높이기 위한 투자를 통해 국내 반도체 산업의 기술 자립을 견인하고, 글로벌 기업으로 성장할 것"이라고 덧붙였다.
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