컨텐츠 바로가기

[컨콜] SK하이닉스 “EUV 적용 4세대 D램, 수율 빠르게 따라 잡을 것”

댓글 첫 댓글을 작성해보세요
주소복사가 완료되었습니다
SK하이닉스는 27일 2021년 2분기 실적 발표 컨퍼런스콜에서 “4세대(1a) D램 제품은 극자외선(EUV) 장비를 사용한 첫 양산 제품이다”라며 “EUV 기술을 쓰지만 본격 적용 전 테스트 성격이 강해, 기존에 적용했던 기술 형태를 유지하는 마지막 제품이라 수율을 유지하는 데 의미가 있다“라고 했다.

이어 “이전 세대 제품에 비해 수율 관점에서 비용이 상쇄하려면 시간이 걸릴 수 있다”면서 “빠르게 수율을 따라 잡을 수 있을 것으로 본다”라고 했다.

박지영 기자(jyoung@chosunbiz.com)

<저작권자 ⓒ ChosunBiz.com, 무단전재 및 재배포 금지>
기사가 속한 카테고리는 언론사가 분류합니다.
언론사는 한 기사를 두 개 이상의 카테고리로 분류할 수 있습니다.