삼성전자, 평택에 5나노급 `EUV 파운드리` 생산라인 구축

5G·HPC·AI 4차 산업혁명 시대 가속화 핵심 기지

기흥·화성에 이어 평택까지 파운드리 라인 구축

5나노 이하 생산..이달 착공 내년 하반기 가동

[이데일리 양희동 기자] 삼성전자(005930)가 극자외선(EUV) 기반 최첨단 제품 수요 증가에 대응하기 위해 경기도 평택캠퍼스에 파운드리(반도체 수탁생산) 생산시설을 구축한다고 21일 밝혔다. 삼성전자는 올 2월 EUV 전용 화성 ‘V1 라인’ 가동에 이어 평택까지 파운드리 라인을 구축하며 △모바일 △고성능컴퓨팅(HPC) △인공지능(AI) 등 다양한 분야로 초미세 공정 기술 적용 범위를 확대해 나갈 계획이다. 이번 투자는 삼성전자가 지난해 4월 발표한 ‘반도체 비전 2030’ 관련 후속 조치 중 하나다. 삼성전자는 시스템 반도체 분야에서 2030년 세계 1위를 달성하기 위한 세부 전략을 실행하고 있다고 설명했다.

정은승 삼성전자 DS부문 파운드리사업부 사장은 “5나노 이하 공정 제품의 생산 규모를 확대해 EUV 기반 초미세 시장 수요 증가에 적극 대응해 나가겠다”며 “전략적 투자와 지속적인 인력 채용을 통해 파운드리 사업의 탄탄한 성장을 이어나갈 것”이라고 말했다.

삼성전자는 이달 평택 파운드리 라인 공사에 착수했으며, 내년 하반기부터 본격 가동할 계획이다. 삼성전자는 지난해 화성 S3 라인에서 업계 최초로 EUV 기반 7나노 양산을 시작한 이후, 올해 V1 라인을 통해 초미세 공정 생산 규모를 지속 확대해왔다. 또 올 연말까지 7나노 이하 공정 비중을 지난해 대비 3배 가량 늘리겠다는 계획이다.

삼성전자는 초미세공정 기술에서 TSMC를 한발 앞서나가는 동시에 EUV 전용 V1 라인을 통한 양산 능력 확대도 추진한다는 전략이다. 이를 위해 올 초 3나노 공정 개발도 TSMC보다 먼저 세계 최초로 성공했다. 또 퀄컴의 5G모뎀칩 ‘스냅드래곤 X60’을 올 1분기 V1 라인에서 업계 첫 5나노 공정 기반으로 양산을 시작했다.

삼성전자는 내년에 평택 라인이 추가로 가동되면 7나노 이하 초미세 공정 기반 제품의 생산 규모는 더욱 가파르게 증가할 것으로 내다봤다. 또 삼성전자는 생산성을 더욱 극대화한 5나노 제품을 올 하반기에 화성에서 먼저 양산한 뒤, 평택 파운드리 라인에서도 주력 생산할 예정이다. 글로벌 파운드리 시장은 5세대 이동통신(5G), HPC, AI, 네트워크 등 신규 응용처 확산에 따라 초미세 공정 중심의 성장이 예상된다. 이에 삼성전자는 프리미엄 모바일 칩을 필두로 하이엔드 모바일 및 신규 응용처로 첨단 EUV 공정 적용을 확대해 나간다는 전략이다.

이재용 삼성전자 부회장도 이날 평택 파운드리 신규 라인 건설 발표와 함께 “어려울 때일수록 미래를 위한 투자를 멈춰서는 안됩니다”라고 강조했다.

신규 EUV 파운드리 생산라인이 들어설 삼성전자 평택캠퍼스. (사진=삼성전자)