세계최대 규모 삼성반도체 평택공장 6∼7월 가동

경기 평택시 고덕산업단지에 들어서는 세계최대 규모의 삼성전자 반도체 생산라인이 오는 6∼7월쯤 정상가동을 앞두고 모습을 드러냈다.

2015년 5월 첫 삽을 뜬 삼성반도체 공장은 이달 중순 현재 90% 이상 공정률을 보이며, 공장동에 설치된 생산라인은 정상가동에 앞서 시험운행에 들어갔다. 이곳에서는 메모리 한계를 극복하기 위해 셀을 3차원 수직 구조로 만든 혁신적인 기술의 ‘3D V낸드(Vertical NAND)’ 플래시 메모리를 본격 생산할 예정이다. 이 공장이 가동되면 삼성전자는 ‘기흥-화성-평택’으로 이어지는 최첨단 ‘반도체 클러스터’를 구축, 세계적인 반도체 강자로서의 입지를 더욱 확고히 하게 된다.

평택시 고덕면 고덕국제신도시 남동쪽에 자리 잡고 있는 평택 반도체 단지는 289만㎡(축구장 400개)에 달하며, 이중 1단계로 75만9000㎡를 개발하고 있다. 경부선철도 변에 위치한 이 구간에는 공장동·발전 및 환경시설·복지동·사무동 등이 건설되며 사무동을 제외한 나머지는 95∼100% 공정률을 보이고 있다. 전체 공정률이 90%를 넘어 마무리 공사가 한창이며, 건설현장 곳곳에 ‘기본과 원칙을 바탕으로 처음부터 올바르게 하자!’, ‘안전, 습관에서 문화로!’ 등 슬로건이 내걸려있다.

반도체 단지를 끼고 왕복 4∼6차선 도로가 시원하게 뚫려 있고, 공사현장 부근엔 공사 근로자들이 타고 온 승용차들이 꽉 들어차있다. 공사인력은 하루 평균 1만8000여 명으로 이들이 출퇴근에 이용하는 차량만 5000여 대에 이른다. 공사현장 북쪽 끝에 있는 3D V낸드 플래시 팹(fab·공장)은 가로 500ｍ·세로 200ｍ·높이 80ｍ 크기의 세계최대 규모로 천장 부분의 마무리 공사가 진행되고 있다. 팹 내부는 1단계 생산라인 설치를 끝내고, 가동과 동시에 제품을 본격 생산하기 위해 현재 시험가동 중인 것으로 전해졌다.

이 공장에서 생산될 3D V낸드 플래시 메모리는 데이터 용량을 더 늘리기 위해 기존 2D 낸드플래시의 미세화 공정 기술 한계를 극복하기 위해 개발된 기술이다. 최첨단 10나노급 공정이 도입되면서 이웃한 셀 간의 간격이 좁아져 발생하는 문제점을 극복하기 위해 기존 단층구조로 배열된 셀을 3차원 수직 구조로 적층하는 혁신적인 기술이 숨어있다.

삼성은 이번 공사에 15조6천억 원을 투자했고, 이는 단일 반도체 생산라인 투자로는 사상 최대 규모다. 반도체 단지는 43번 국도 진출입로·경부 1호 국도와 인접해있고, 경부철도 지제·송탄역 사이에 자리잡고 있어 사통팔달의 교통망을 갖추고 있다.

평택시는 정상가동 시 연간 1000억 원의 지방 세입 증가와 3만여 명의 고용 효과를 기대하고 있다.

<최인진 기자 ijchoi@kyunghyang.com>

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