삼성전자 2Q 시설투자 12.7조 집행…반도체에 7.5조

삼성전자 경기도 평택 공장. /사진제공=삼성전자

삼성전자는 2분기 시설투자로 12조7000억원을 집했다고 27일 밝혔다.

이 중 반도체 부문에 7조5000원, 디스플레이 부문에 4조5000억원이 쓰였다.

상반기 전체 시설 투자 규모는 22조5000억원이다.

삼성전자는 올해 시설투자 계획이 아직 확정되지 않았지만 반도체와 디스플레이를 중심으로 지난해보다 투자 규모가 대폭 증가할 것으로 전망했다.

메모리반도체의 경우 V낸드 수요 증가에 대응하기 위해 평택 단지의 생산량을 늘리고 평면 낸드를 V낸드로 전환하는 투자가 이뤄질 계획이다.

시스템LSI는 D램을 생산하는 화성 11라인 일부를 이미지센서 생산 라인으로 전환하는 투자가 진행된다.

파운드리는 10나노 신규 라인 증설이 진행 중이다.

디스플레이 부문에선 플렉서블 OLED(유기발광다이오드) 수요 증가에 맞춰 생산량을 확대하기 위한 투자가 이뤄진다.

심재현 기자 urme@mt.co.kr

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