이번에 등록된 특허는 2012년 출원한 것으로, 루트로닉의 안과 분야 특허등록으로는 미국에서 네 번째다.
등록된 특허에는 ▲순차적으로 에너지를 증가시키며 복수의 빔 생성 작동을 제어하는 기술 ▲빔의 최대 수준에서 발생한 기포가 검출될 때 실시간으로 제어하는 기술 ▲복수의 빔을 생성하면서 이를 정보로 저장하는 메모리 기능 ▲빔 각각의 초점 위치를 제어하는 스캐너 기술 등이 포함됐다.
이 회사 관계자는 "보통 미국에서의 특허 등록은 5~6년의 시간이 소요된다"며 "미국 특허등록으로 핵심원천기술에 대한 IP 포트폴리오를 형성하여 기술의 보호 및 진입장벽을 높여 상당 기간에 걸쳐 새로운 부가가치 창출에 기여할 수 있게 되었다"고 설명했다.
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