반도체 '세정' 기술, 제조 공정의 핵심 정보
협력업체 관계자들, SK하이닉스 기술 중국에 유출
'유출 정보 이용' 70억짜리 장비 직접 제작
반도체 제조 공정에서 불순물을 제거하는 세정 작업입니다.
수만 장 이상의 기판으로 공정을 수행하면서 가장 적합한 배합비와 분사 순서, 속도 등이 정해지는 핵심 기술입니다.
SK하이닉스의 이 세정 레시피와 최신 D램 반도체 제조 공정 기술을 중국에 유출한 협력업체 관계자들이 검찰에 적발됐습니다.
이들은 제조업체와의 협업을 통해 알게 된 국가 핵심 기술과 정보를 중국 경쟁업체에 몰래 넘긴 것으로 조사됐습니다.
또, 삼성전자 자회사인 반도체 장비업체가 세계 최초로 개발한 반도체 세정 장비 도면 등도 전직 직원 등을 통해 취득한 것으로 밝혀졌습니다.
이들은 이 정보를 이용해 한 대 가격이 70억 원가량 되는 수출용 반도체 세정 장비를 직접 만들기도 했습니다.
검찰은 해당 업체가 중국 판로를 확장하기 위해 핵심 기술을 빼돌려 유출한 것으로 보인다고 설명했습니다.
업체 관계자들은 검찰 조사에서 유출 사실은 인정하지만, 중요한 정보인지는 몰랐다고 부인한 것으로 전해졌습니다.
검찰은 국가정보원 산하 산업기밀보호센터로부터 국내 핵심 기술이 중국에 유출된 정황이 있다는 정보를 입수하고 6개월 동안 수사를 이어왔습니다.
검찰은 산업기술보호법 위반 혐의 등으로 협력업체 연구소장 등 5명을 구속기소 하고, 12명을 불구속 기소했습니다.
이들이 유출 기술로 만든 장비는 중국으로 팔아넘기기 전에 적발돼 수출이 차단됐습니다.
취재기자 : 한동오
촬영기자 : 곽영주
영상편집 : 이정욱
그래픽 : 김효진
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반도체 제조 공정에서 불순물을 제거하는 세정 작업입니다.
수만 장 이상의 기판으로 공정을 수행하면서 가장 적합한 배합비와 분사 순서, 속도 등이 정해지는 핵심 기술입니다.
SK하이닉스의 이 세정 레시피와 최신 D램 반도체 제조 공정 기술을 중국에 유출한 협력업체 관계자들이 검찰에 적발됐습니다.
이들은 제조업체와의 협업을 통해 알게 된 국가 핵심 기술과 정보를 중국 경쟁업체에 몰래 넘긴 것으로 조사됐습니다.
