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하나기술 “반도체 유리기판 TGV 기술 개발”

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하나기술 “반도체 유리기판 TGV 기술 개발”

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하나기술이 'TGV(Through-Glass Via) 유리 가공 기술' 개발에 성공한 것을 기념하며 자체 기술 시연회를 개최했다. (하나기술 제공)

하나기술이 'TGV(Through-Glass Via) 유리 가공 기술' 개발에 성공한 것을 기념하며 자체 기술 시연회를 개최했다. (하나기술 제공)


하나기술은 반도체 유리기판 핵심기술인 글라스관통전극(TGV·Through Glass Via) 가공기술 개발을 완료했다고 7일 밝혔다.

회사는 자체 광학 설계를 기반으로 레이저 융합기술과 열면취 기술을 접목시켜 반도체 유리기판 가공 솔루션을 만들었다고 설명했다.

현재 1.1㎜ 두께 유리 기판에 대해 80마이크로미터(㎛) 수준의 미세홀 가공을 구현했고, 고객사가 요구하는 홀 품질 요건인 TGV 직경 편차, 테이퍼율, 단면 조도 등에 부합하는 공정 능력을 갖췄다고 덧붙였다.

하나기술은 현재 국내 주요 웨이퍼 및 패키징 기업들과 공정 평가를 진행하고 있으며, 일부 고객사와는 장비 공급을 논의하고 있다. 내년 상반기 중 첫 장비 납품이 이뤄질 수 있을 것으로 회사는 기대하고 있다.

하나기술 관계자는 “TGV 장비 시장은 인공지능(AI), 5G, 고성능 반도체 수요 급증으로 2030년 초반까지 매년 약 34%의 높은 성장율이 전망된다”며 “이차전지 장비를 기반으로 성장해 온 하나기술의 또 다른 성장모멘텀이 될 것”이라고 말했다.

정현정 기자 iam@etnews.com

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