‘중국에 반도체 기술 유출’ 삼성전자 전 직원 징역 7년

서울중앙지법 전경/ 뉴스1

반도체 핵심 기술을 중국 회사에 유출한 혐의를 받는 전직 삼성전자 부장이 1심에서 징역 7년을 선고받았다.

서울중앙지법 형사합의25부(재판장 지귀연)는 19일 산업기술보호법 위반 등 혐의로 전직 삼성전자 부장 김모씨에게 징역 7년과 벌금 2억원을 선고했다. 협력업체 직원 방모씨에게는 징역 2년 6개월을 선고했다. 검찰 구형은 김씨가 징역 20년, 방씨가 징역 10년이었다.

재판부는 “김씨 등의 범행은 건전한 경쟁을 심각하게 저해하고, 반도체 핵심 기술을 만든 피해 회사의 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 실제로 대한민국 국가 산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대 범죄”라며 “피해 회사의 손해가 가볍지 않고, 특히 삼성전자의 피해는 어마어마한 액수에 이를 것으로 예상한다”고 말했다.

김씨는 국가 핵심 기술인 삼성전자의 18나노 D램 반도체 공정 정보를 무단 유출해 중국 기업 CXMT가 제품 개발에 사용하게 한 혐의로 작년 1월 재판에 넘겨졌다. 검찰 수사 결과 김씨는 2016년 삼성전자를 퇴사하고 당시 신생 업체였던 CXMT로 이직하면서 반도체 ‘증착’ 기술 등 핵심 기술 8개를 유출한 것으로 조사됐다. 김씨는 그 대가로 수백억원대 금품을 받은 혐의도 있다. 방씨는 김씨와 공모해 반도체 장비를 납품하는 A사의 설계기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의를 받는다.

국가정보원은 이들의 기술 유출 정황을 포착해 검찰에 2023년 5월 수사를 의뢰했고, 서울중앙지검이 작년 1월 두 사람을 구속 기소했다.

[유희곤 기자]

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