법원, '중국 반도체 기술 유출' 삼성전자 전 직원에 징역 7년

법원이 국내 반도체 핵심 기술을 중국에 유출한 삼성전자와 협력업체 전직 직원에 중형을 선고했다. 국가산업 경쟁력에 악영향을 준 중대한 범죄라는 판단에서다.

서울중앙지법 형사합의25부(지귀연 부장판사)는 19일 산업기술보호법 위반 등 혐의로 구속기소 된 전직 삼성전자 부장 김모씨에게 징역 7년과 벌금 2억원, 협력업체 A사 직원 방모씨에게 징역 2년 6개월을 선고했다.

재판부는 건전한 경쟁을 심각하게 저해하고 이를 만든 피해 회사의 막대한 시간과 비용을 헛되게 할 뿐 아니라 실제로 대한민국 국가산업 경쟁력에 큰 악영향을 줄 수 있는 중대 범죄라고 판시했다. 또 피해 회사의 손해가 가볍지 않으며, 특히 삼성전자 피해는 어마어마한 액수에 이를 것이라고 강조했다.

김씨는 중국 창신메모리테크놀로지(CXMT)에 국가 핵심기술인 삼성전자 18나노미터(㎚) D램 공정 정보를 무단 유출한 혐의 등을 받고 있다. 국가정보원이 이같은 정확을 포착하면서 김씨는 지난 2023년 5월 검찰에 넘겨졌다.

검찰은 김씨가 2016년 CXMT로 이직하면서 반도체 증착 관련 자료와 7개 핵심 공정 기술 자료를 유출하는 대가로 수백억원대의 금품을 수수한 것으로 보고 있다. 또 CXMT에 삼성전자와 관계사 기술 인력 20여명을 소개한 것으로 파악했다.

방씨도 김씨와 공모해 반도체 장비를 납품하는 A사의 설계 기술자료를 CXMT에 넘긴 혐의를 받고 있다.

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박진형 기자 jin@etnews.com

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