프랙틸리아, "반도체 공정 확률론적 오류 측정 수요 5년새 100배 증가"

크리스 맥 프랙틸리아 최고기술책임자(CTO) 겸 공동창업자

프랙틸리아 반도체 회로 선폭 계측 기술을 활용한 사례가 5년 새 100배 증가했다. 프랙틸리아는 반도체 공정 시 미세 회로 문제를 발생시키는 '확률론적 오류(스토캐스틱)'를 계측·제어하는 솔루션을 개발한다. 극자외선(EUV) 노광 공정 도입으로 반도체 회로 선폭이 급격히 줄어들면서 스토캐스틱을 파악하려는 수요도 급증했다.

크리스 맥 프랙틸리아 최고기술책임자(CTO)는 최근 한국을 찾아 프랙틸리아 사업 현황과 전략을 소개했다. 맥 CTO는 프랙틸리아를 설립한 2017년 자사 기술을 활용해 고객사가 반도체 스토캐스틱을 측정한 이미지 수가 10만건에서 올해 1000만건에 육박할 것이라고 밝혔다. 5년만에 프랙틸리아 솔루션 수요가 100배 증가한 셈이다.

그는 “반도체 공정이 초미세화하면서 스토캐스틱을 확인해 수율을 높이려는 시도가 늘고 있다”며 “이에 따라 회사도 매년 2배씩 성장하고 있다”고 밝혔다. 프랙틸리아는 세계 상위 5개 반도체 제조사 중 4곳에 솔루션을 공급하고 있다. 국내 주요 반도체 제조사도 프랙틸리아 기술로 스토캐스틱을 측정한다.

스토캐스틱은 반도체 노광 공정 시 자연적으로 발생하는 각종 오류를 의미한다. 반도체 회로 선폭 표면이 거칠어지거나 회로끼리 맞붙는 경우, 특정 위치에 회로가 그려지지 않는 주요 원인이다. EUV 공정으로 반도체 회로가 한층 미세화하면서 스토캐스틱으로 인한 불량 가능성이 높아졌다.

맥 CTO는 “스토캐스틱이 발생하면 반도체 제품이 제 기능을 못해 폐기할 수밖에 없다”며 “반도체 제조사가 스토캐스틱을 정확하게 측정해 수율을 관리하려는 배경”이라고 설명했다.

반도체 공정 시 확률론적 오류(스토캐스틱)으로 인한 회로 불량 사례

스토캐스틱은 보통 SEM이라는 반도체 회로 선폭 검사용 첨단 전자현미경으로 측정한다. SEM으로 촬영한 회로 선폭 이미지는 노이즈로 덮여있고 왜곡된 경우가 많다. 프랙틸리아는 독자 개발한 알고리즘 '페임(FAME)'으로 노이즈를 걷어내고 회로 선폭 이미지를 선명하게 만든다. 반도체 제조사는 프랙틸리아 솔루션으로 정확한 스토캐스틱을 측정할 수 있어 공정 수율을 대폭 증가시킬 수 있다. 프랙틸리아 기술은 다수의 특허를 확보하며 경쟁력을 쌓고 있다.

맥 CTO는 “최근 반도체 제조사뿐 아니라 EUV 포토레지스트나 포토마스크 등 소재·부품 연구개발(R&D) 분야에서도 고품질 제품을 만들기 위해 스토캐스틱 측정 수요가 높아졌다”고 말했다. 프랙틸리아 시장 저변이 확대됐다는 의미다. 그는 “현재 R&D 단계에서 프랙틸리아 솔루션 활용 사례가 많은데 이를 양산 단계까지 확대 적용할 수 있는 솔루션을 개발 중”이라고 덧붙였다.

권동준기자 djkwon@etnews.com

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