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03.29 (금)

이재용 '큰 그림' 구상 구체화…삼성전자 2030년까지 '133조' 투자

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삼성전자가 24일 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발 및 생산시설 확충에 133조 원을 투자하고, 전문인력 1만5000명을 채용한다고 밝혔다. 이재용 삼성전자 부회장 /삼성전자 제공

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삼성전자 133조 투자 프로젝트 '반도체 비전 2030' 제시

[더팩트 | 서재근 기자] 삼성전자가 10년 단위, 133조 원 규모의 '통 큰' 투자 계획을 발표했다. 지난해 8월 신규투자 확대와 청년 일자리 창출, 미래 성장사업 육성, 개방형 혁신 생태계 조성, 상생 협력 강화를 골자로 하는 경제 활성화 및 일자리 창출 방안을 발표한 지 9개월여 만에 미래 신성장 사업 경쟁력 제고에 초점을 맞춘 구체적인 투자 플랜을 제시한 것이다.

삼성전자는 오는 2030년까지 시스템 반도체 분야 연구개발 및 생산시설 확충에 133조 원을 투자하고, 전문인력 1만5000명을 채용한다고 24일 밝혔다. 삼성전자는 또한 시스템 반도체 인프라와 기술력을 공유해 팹리스(반도체 설계 전문업체), 디자인하우스(설계 서비스 기업) 등 국내 시스템 반도체 생태계의 경쟁력을 강화할 방침이다. 과감하고 선제적인 투자와 국내 중소업체와의 상생협력을 통해 2030년까지 메모리 반도체뿐만 아니라 시스템 반도체 분야에서 글로벌 1위를 목표로 삼은 '반도체 비전 2030'을 달성하겠다는 전략이다.

먼저 삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 연구개발(R&D) 분야에 73조 원, 최첨단 생산 인프라에 60조 원을 투자한다. 삼성전자 관계자는 "R&D 투자금액이 73조 원 규모에 달해 국내 시스템 반도체 연구개발 인력 양성에 기여할 것으로 기대된다"며 "아울러 생산시설 확충에도 60조 원이 투자돼 국내 설비/소재 업체를 포함한 시스템 반도체 생태계 발전에도 긍정적인 영향이 예상된다"고 설명했다.

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삼성전자는 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자를 지속해 나간다는 계획이다.

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삼성전자는 향후 화성캠퍼스 신규 EUV라인을 활용해 생산량을 증대하고, 국내 신규 라인 투자를 지속하는 것은 물론 기술경쟁력 강화를 위해서 시스템 반도체 R&D 및 제조 전문인력 1만5000명을 채용할 계획이다.

업계에서는 삼성전자의 이 같은 계획이 실행되면 2030년까지 연평균 11조 원의 R&D 및 시설투자가 집행되고, 생산량이 증가함에 따라 42만 명의 간접 고용유발 효과가 발생할 것으로 내다보고 있다.

삼성전자는 국내 팹리스 업체를 지원하는 등 상생협력을 통해 한국 시스템 반도체 산업생태계를 강화에도 집중한다. 국내 중소 팹리스 고객들이 제품 경쟁력을 강화하고 개발기간도 단축할 수 있도록 인터페이스IP, 아날로그 IP, 시큐리티 IP 등 삼성전자가 개발한IP(설계자산)를 호혜적으로 지원한다.

또한, 더욱 효과적으로 제품을 개발할 수 있도록 삼성전자가 개발한 설계·불량 분석 툴(Tool) 및 소프트웨어 등도 지원할 계획이다.

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삼성전자는 시스템 반도체 사업경쟁력 강화를 위해 2030년까지 국내 R&D 분야에 73조 원, 최첨단 생산 인프라에 60조 원을 투자한다는 계획이다.

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삼성전자는 소품종 대량생산 체제인 메모리 반도체와 달리 다품종 소량생산이 특징인 시스템 반도체 분야의 국내 중소 팹리스업체가 지금까지 수준 높은 파운드리 서비스를 활용하는 데 어려움이 있다는 점에 주목하고, 이를 해소하기 위해 반도체 위탁생산 물량 기준도 완화해, 국내 중소 팹리스업체의 소량제품 생산을 적극적으로 지원할 계획이다.

이 외에도 국내 중소 팹리스 업체의 개발활동에 필수적인 MPW 프로그램을 공정당 년 2~3회로 확대 운영하고, 국내 디자인하우스 업체와의 외주협력도 확대해 나갈 계획이다.

likehyo85@tf.co.kr


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